| 用改进曝光模型模拟厚胶显影轮廓 | |
| 段茜; 姚欣; 陈铭勇; 马延琴; 刘世杰; 唐雄贵; 杜惊雷 | |
| 刊名 | 光电工程
 |
| 2006 | |
| 卷号 | 第4期页码:P50-54 |
| 关键词 | 厚层抗蚀剂曝光模型 显影轮廓 显影线宽 边墙陡度 |
| ISSN号 | 1003-501X |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/1874858 |
| 专题 | 四川大学 |
| 作者单位 | 四川大学物理科学与技术学院 四川成都 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 段茜,姚欣,陈铭勇,等. 用改进曝光模型模拟厚胶显影轮廓[J]. 光电工程,2006,第4期:P50-54. |
| APA | 段茜.,姚欣.,陈铭勇.,马延琴.,刘世杰.,...&杜惊雷.(2006).用改进曝光模型模拟厚胶显影轮廓.光电工程,第4期,P50-54. |
| MLA | 段茜,et al."用改进曝光模型模拟厚胶显影轮廓".光电工程 第4期(2006):P50-54. |
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