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浏览/检索结果: 共3条，第1-3条 帮助 限定条件 专题：金属研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Si含量对电弧离子镀Ti-Al-Si-N薄膜组织结构和力学性能的影响 期刊论文 金属学报, 2012, 期号: 11, 页码: 1349-1356 时婧; 裴志亮; 宫骏; 孙超; MUDERS C M; 姜辛 收藏  |  浏览/下载：86/0  |  提交时间：2013/02/23 磁过滤电弧离子镀  Ti-Al-Si-N薄膜  纳米硬度  结合强度   Study on nanocomposite Ti-Al-Si-Cu-N films with various Si contents deposited by cathodic vacuum arc ion plating 期刊论文 Applied Surface Science, 2012, 卷号: 258, 期号: 24, 页码: 9642-9649 J. Shi; C. M. Muders; A. Kumar; X. Jiang; Z. L. Pei; J. Gong; C. Sun 收藏  |  浏览/下载：17/0  |  提交时间：2013/02/05 Ti-Al-Si-Cu-N films  Cathode arc ion plating  Nanocomposite  tribological properties  mechanical-properties  coatings  microstructure  nitride  bias   Si含量对电弧离子镀Ti-A1-Si-N薄膜组织结构和力学性能的影响 期刊论文 金属学报, 2012, 卷号: 48, 期号: 11, 页码: 1349-1356 作者:  时婧;  裴志亮;  宫骏;  孙超;  Muders C M 收藏  |  浏览/下载：23/0  |  提交时间：2021/02/02 磁过滤电弧离子镀  Ti-Al-Si-N薄膜  纳米硬度  结合强度