Si含量对电弧离子镀Ti-A1-Si-N薄膜组织结构和力学性能的影响

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	Si含量对电弧离子镀Ti-A1-Si-N薄膜组织结构和力学性能的影响
	时婧 1; 裴志亮 1; 宫骏 1; 孙超 1; Muders C M 2; 姜辛 2
刊名	金属学报
	2012
卷号	48 期号:11 页码:1349-1356
关键词	磁过滤电弧离子镀 Ti-Al-Si-N薄膜纳米硬度结合强度
ISSN号	0412-1961
其他题名	EFFECT OF Si CONTENT ON THE MICROSTRUCTURE AND MECHANICAL PROPERTIES OF Ti-A1-Si-N FILMS DEPOSITED BY CATHODIC VACUUM ARC ION PLATING
英文摘要	利用磁过滤电弧离子镀技术在高速钢基体上制备了不同Si含量的Ti-Al-Si-N薄膜,研究了Si含量对薄膜组织结构以及力学性能的影响。结果表明,Ti-Al-Si-N薄膜主要由晶态TiAlN和非晶态的Si_3N_4组成,随着Si含量的增加,XRD衍射峰强度减弱,晶粒尺寸减小;薄膜的显微组织也由明显的柱状晶转变为致密的纳米晶结构.利用纳米硬度仪对薄膜的硬度和弹性模量进行了分析,结果表明,薄膜的硬度和弹性模量有着相似的变化趋势,随着Si含量的增加,两者都先增加,当Si含量达到一定程度时,它们会逐渐稳定在一定范围内,而后又随Si含量的继续增加呈下降趋势.通过划痕测试对薄膜结合强度进行了分析,结果表明,薄膜与基体的结合强度随Si含量的增加先减小而后增加.
语种	中文
CSCD记录号	CSCD:4696446
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/149256]
专题	金属研究所_中国科学院金属研究所
作者单位	1.中国科学院金属研究所 2.Institute of Materials Engineering, University of Siegen
推荐引用方式 GB/T 7714	时婧,裴志亮,宫骏,等. Si含量对电弧离子镀Ti-A1-Si-N薄膜组织结构和力学性能的影响[J]. 金属学报,2012,48(11):1349-1356.
APA	时婧,裴志亮,宫骏,孙超,Muders C M,&姜辛.(2012).Si含量对电弧离子镀Ti-A1-Si-N薄膜组织结构和力学性能的影响.金属学报,48(11),1349-1356.
MLA	时婧,et al."Si含量对电弧离子镀Ti-A1-Si-N薄膜组织结构和力学性能的影响".金属学报 48.11(2012):1349-1356.