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用于Cu互连阻挡层的非晶Ni-Al薄膜研究 期刊论文
功能材料, 2008, 卷号: 39, 期号: 12, 页码: 2005-2007
作者:  霍骥川[1];  刘保亭[2];  邢金柱[3];  周阳[4];  李晓红[5]
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一种用于铜互连的导电阻挡层材料及制备方法 专利
申请日期: 2008-01-01, 公开日期: 2008-10-15
作者:  刘保亭[1];  马良[2];  邢金柱[3];  霍骥川[4];  边芳[5]
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