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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 限定条件 发表日期：2007    专题：微电子研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 一种纳米线宽多晶硅栅刻蚀掩膜图形的形成方法 专利 专利号: CN200410047532.7, 申请日期: 2007-10-10, 公开日期: 2005-11-23 作者:  钱鹤;  徐秋霞;  刘明;  赵玉印 收藏  |  浏览/下载：11/0  |  提交时间：2010/11/26