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PECVD SiON薄膜的工艺控制、性质及其潜在应用 期刊论文
光学学报, 1995, 期号: 07
祖继锋; 耿完桢; 洪晶; 余宽豪; 江志庚; 李志彭; 陈学良
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PECVD SiON薄膜的工艺控制、性质及其潜在应用 期刊论文
光学学报, 1995, 卷号: 第15卷, 页码: 913-916
作者:  祖继锋;  耿完桢;  洪晶;  余宽豪;  江志庚
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