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浏览/检索结果: 共4条，第1-4条 帮助 限定条件 专题：中国科学院大学    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Mechanismand model of atomic hydrogen cleaning for different types of carbon contamination on extreme ultraviolet multilayers 期刊论文 Thin solid films, 2016, 卷号: 612, 页码: 96-100 作者:  Song, Yuan;  Lu, Qipeng;  Gong, Xuepeng 收藏  |  浏览/下载：27/0  |  提交时间：2019/05/09 Atomic hydrogen cleaning  Different types of carbon contamination  Extreme ultraviolet lithography  Cleaning mechanism   Extreme ultraviolet narrow band emission from electron cyclotron resonance plasmas 期刊论文 Review of scientific instruments, 2008, 卷号: 79, 期号: 2, 页码: 4 作者:  Zhao, H. Y.;  Zhao, H. W.;  Sun, L. T.;  Zhang, X. Z.;  Wang, H. 收藏  |  浏览/下载：21/0  |  提交时间：2019/05/10 Transient thermal and structural deformation and its impact on optical performance of projection optics for extreme ultraviolet lithography 期刊论文 Japanese journal of applied physics part 1-regular papers brief communications & review papers, 2007, 卷号: 46, 期号: 10a, 页码: 6568-6572 作者:  Liu, Ke;  Li, Yanqiu;  Zhang, Fuchang;  Fan, Mingzhe 收藏  |  浏览/下载：26/0  |  提交时间：2019/05/10 Extreme ultraviolet lithography  Projection optics  Thermal and structural effect  Mirror mount  Thermo-mechanical analysis  Zernike polynomials   Pattern density dependence of thermal deformation of extreme ultraviolet mask and its impact on full field lithography performance 期刊论文 Japanese journal of applied physics part 1-regular papers brief communications & review papers, 2007, 卷号: 46, 期号: 8a, 页码: 5104-5111 作者:  Li, Yanqiu;  Zhou, Pengfei;  Fei, Zhang 收藏  |  浏览/下载：16/0  |  提交时间：2019/05/10 Euvl  Mask  Optics  Thermal deformation  Next generation of lithography