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| 一种金属纳米晶薄膜的制备方法 专利 专利号: CN200610109562.5, 申请日期: 2009-06-17, 公开日期: 2008-02-13 作者: 龙世兵; 李志刚; 刘明; 陈宝钦 收藏  |  浏览/下载:1/0  |  提交时间:2010/11/26 |
| 适用于增强型InGaP/AlGaAs/InGaAs PHEMT器件的栅退火方法 专利 专利号: CN101471260, 申请日期: 2007-12-26, 公开日期: 2009-07-01, 2010-11-26 作者: 黎明; 徐静波; 付晓君 收藏  |  浏览/下载:7/0  |  提交时间:2010/11/26 |
| InP基PHEMT欧姆接触低温合金化工艺的研究 期刊论文 半导体技术, 2005, 卷号: 30, 期号: 10, 页码: 4,15-18 作者: 李潇; 张海英; 李海鸥; 刘亮; 尹军舰 收藏  |  浏览/下载:12/0  |  提交时间:2010/05/26
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| 采用电子束蒸发方式制备HfO2纳米晶的方法 专利 专利号: CN200710179371.0, 公开日期: 2009-06-17 作者: 陈晨; 陈宝钦; 龙世兵; 谢常青; 王琴 收藏  |  浏览/下载:0/0  |  提交时间:2010/11/26 |
| 利用电子束蒸发设备制备硅纳米晶体的方法 专利 专利号: CN200710176277.X, 公开日期: 2009-04-29 作者: 涂德钰; 陈宝钦; 贾锐; 刘明; 李维龙 收藏  |  浏览/下载:4/0  |  提交时间:2010/11/26 |