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一种金属纳米晶薄膜的制备方法 专利
专利号: CN200610109562.5, 申请日期: 2009-06-17, 公开日期: 2008-02-13
作者:  龙世兵;  李志刚;  刘明;  陈宝钦
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适用于增强型InGaP/AlGaAs/InGaAs PHEMT器件的栅退火方法 专利
专利号: CN101471260, 申请日期: 2007-12-26, 公开日期: 2009-07-01, 2010-11-26
作者:  黎明;  徐静波;  付晓君
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InP基PHEMT欧姆接触低温合金化工艺的研究 期刊论文
半导体技术, 2005, 卷号: 30, 期号: 10, 页码: 4,15-18
作者:  李潇;  张海英;  李海鸥;  刘亮;  尹军舰
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采用电子束蒸发方式制备HfO2纳米晶的方法 专利
专利号: CN200710179371.0, 公开日期: 2009-06-17
作者:  陈晨;  陈宝钦;  龙世兵;  谢常青;  王琴
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利用电子束蒸发设备制备硅纳米晶体的方法 专利
专利号: CN200710176277.X, 公开日期: 2009-04-29
作者:  涂德钰;  陈宝钦;  贾锐;  刘明;  李维龙
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