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浏览/检索结果: 共3条，第1-3条 帮助 限定条件 内容类型：期刊论文     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Deep dry etching of fused silica using C4F8/Ar inductively coupledplasmas 期刊论文 J Mater Sci: Mater Electron, 2016 作者:  Liu FM(刘丰满);  Lin LC(林来存) 收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2017/04/14 A Multi-Scale Study on Silicon-Oxide Etching Processes in C4F8/Ar Plasmas 期刊论文 PLASMA SCIENCE & TECHNOLOGY, 2016, 卷号: 18, 页码: 666-673 作者:  Sui Jiaxing;  Zhang Saiqian;  Liu Zeng;  Yan Jun;  Dai Zhongling 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2019/12/09 plasma etching  multi-scale model  trench profile  surface process   Investigation of fused silica glass etching using C4F8/Ar inductively coupled plasmas for through glass via（TGV）applications 期刊论文 Microsyst Technol, 2015 作者:  林来存;  王启东;  靖向萌 收藏  |  浏览/下载：10/0  |  提交时间：2016/06/02