QQ客服 官方微博 反馈留言

浏览/检索结果: 共3条，第1-3条 帮助 限定条件 内容类型：会议论文     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 反应物输运与Ar/C4F8等离子体中SiO2刻蚀的精度控制 会议论文 第十八届全国等离子体科学技术会议, 中国陕西西安, 2017-07-01 作者:  张赛谦;  杨雪;  戴忠玲;  王友年 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2019/12/02 原子层刻蚀  整体模型  鞘层模型  离子能量角度分布   C4F8/AR混合气体刻蚀SiO2的多目标优化研究 会议论文 2015中国力学大会, 上海, 2015-08-16 作者:  刘佳;  阎军;  戴忠玲;  宋亦旭 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2019/12/09 Atomic layer etching of SiO2 under Ar/C4F8 plasmas with pulsed bias 会议论文 The joint 68th Gaseous Electronics Conference, the 9th International Conference on Reactive Plasmas, and the 33rd Symposium on Plasma Processing (GEC-68/ICRP-9/SPP-33) 作者:  Dai ZL(戴忠玲);  Wang YN(王友年) 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2019/12/09