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高K介质/InGaAs界面工程在金属氧化物半导体场效应晶体管中的应用 会议论文
西安
作者:  刘洪刚
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注硅工艺对埋氧层中陷阱电荷的影响 会议论文
第十届全国抗辐射电子学与电磁脉冲学术年会, 2009
王茹; 张正选; 俞文杰; 田浩; 毕大炜; 张帅; 陈明
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