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科研机构
西安光学精密机械研究... [7]
大连理工大学 [1]
内容类型
专利 [8]
发表日期
2010 [1]
2004 [1]
2002 [1]
2001 [1]
1988 [1]
1985 [1]
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Silicon photoelectric diode manufacturing method, involves carrying low temperature annealing to wafer to form ohmic contact between silicon material of device layer and positive and negative electrodes of upper surface.
专利
申请日期: 2010-01-01, 公开日期: 2010-05-26
作者:
CHU J HAN Z MENG F WANG Z
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提交时间:2019/12/24
Quantum well intermixing in InGaAsP structures induced by low temperature grown InP
专利
专利号: US6797533, 申请日期: 2004-09-28, 公开日期: 2004-09-28
作者:
THOMPSON, DAVID A.
;
ROBINSON, BRADLEY J.
;
LETAL, GREGORY J.
;
LEE, ALEX S. W.
;
GORDON, BROOKE
收藏
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浏览/下载:12/0
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提交时间:2019/12/26
Tapered air apertures for thermally robust vertical cavity laser structures
专利
专利号: US20020067748A1, 申请日期: 2002-06-06, 公开日期: 2002-06-06
作者:
COLDREN, LARRY A.
;
NAONE, RYAN L.
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浏览/下载:10/0
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提交时间:2019/12/31
Optical device, laser beam source, laser apparatus and method of producing optical device
专利
专利号: US6333943, 申请日期: 2001-12-25, 公开日期: 2001-12-25
作者:
YAMAMOTO, KAZUHISA
;
MIZUUCHI, KIMINORI
;
KITAOKA, YASUO
;
KATO, MAKOTO
收藏
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浏览/下载:16/0
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提交时间:2019/12/24
Manufacture of compound semiconductor thin film
专利
专利号: JP1988092015A, 申请日期: 1988-04-22, 公开日期: 1988-04-22
作者:
SHIMOBAYASHI TAKASHI
;
ITO NAOYUKI
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提交时间:2020/01/18
Manufacture of semiconductor laser
专利
专利号: JP1985223185A, 申请日期: 1985-11-07, 公开日期: 1985-11-07
作者:
SUZUKI TOORU
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浏览/下载:2/0
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提交时间:2020/01/18
ZnO group epitaxial semiconductor device and its manufacture
专利
专利号: US20060170013A1, 公开日期: 2006-08-03
作者:
KATO, HIROYUKI
;
MIYAMOTO, KAZUHIRO
;
SANO, MICHIHIRO
;
YAO, TAKAFUMI
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浏览/下载:6/0
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提交时间:2019/12/26
Method for implantation of high dopant concentrations in wide band gap materials
专利
专利号: US20060286784A1, 公开日期: 2006-12-21
作者:
USOV, IGOR
;
ARENDT, PAUL N.
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提交时间:2019/12/26
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