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科研机构
兰州化学物理研究所 [6]
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期刊论文 [6]
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2015 [1]
2014 [1]
2013 [1]
2012 [1]
2008 [1]
2005 [1]
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学科主题
材料科学与物理化学 [6]
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学科主题:材料科学与物理化学
专题:兰州化学物理研究所
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Deposition and characterization of TiAlSiN coatings prepared by hybrid PVD coating system
期刊论文
Surface and Interface Analysis, 2015, 卷号: 47, 期号: 2, 页码: 184-191
作者:
Wu, Jinfeng
;
He NR(何乃如)
;
Li HX(李红轩)
;
Liu XH(刘晓红)
;
Ji L(吉利)
收藏
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浏览/下载:28/0
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提交时间:2016/02/18
hybrid PVD coating system
TiAlSiN films
microstructure
mechanical properties and oxidation resistance
The microstructure and improved mechanical properties of Ag/Cu nanoscaled multilayer films deposited by magnetron sputtering
期刊论文
Applied Surface Science, 2014, 卷号: 313, 页码: 563-568
作者:
Hu M(胡明)
;
Gao XM(高晓明)
;
Weng LJ(翁立军)
;
Sun JY(孙嘉奕)
;
Liu WM(刘维民)
收藏
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浏览/下载:99/0
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提交时间:2016/11/22
Multilayer film
Solid lubricant
Hardness
Tribological properties
Comparison of the tribological behavior of columnar-grained polycrystalline copper with vertical/horizontal orientation sliding against AISI 1045 steel
期刊论文
Wear, 2013, 卷号: 297, 期号: 1-2, 页码: 818-823
作者:
Shang J(商剑)
;
Ma WL(马文林)
;
Lv JJ(吕晋军)
收藏
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浏览/下载:17/0
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提交时间:2013/12/04
Sliding wear
Non-ferrous metals
Optical microscopy
Tribophysics
Tribochemistry
Influence of substrate bias voltage on structure and properties of the CrAlN films deposited by unbalanced magnetron sputtering
期刊论文
Applied Surface Science, 2012, 卷号: 258, 期号: 8, 页码: 3864-3870
作者:
Lv YH(吕艳红)
;
Ji L(吉利)
;
Liu XH(刘晓红)
;
Li HX(李红轩)
;
Zhou HD(周惠娣)
收藏
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浏览/下载:9/0
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提交时间:2013/07/12
CrAlN films
Microstructure
Mechanical properties
Corrosion resistance
The effect of hydrogen on copper nitride thin films deposited by magnetron sputtering
期刊论文
Applied Surface Science, 2008, 卷号: 254, 页码: 5012-5015
作者:
Zhang GA(张广安)
;
Chen JT(陈江涛)
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浏览/下载:13/0
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提交时间:2013/03/28
Copper nitride
Thin films
Hydrogen
Structure
Thermal properties
The effects of negative bias and flux ratio on the properties of TiN thin films formed by filtered cathodic arc plasma technique
期刊论文
Acta metallurgica sinica, 2005, 卷号: 18, 期号: 3, 页码: 369-374
作者:
Xue QJ(薛群基)
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浏览/下载:13/0
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提交时间:2014/03/03
TiN
filtered cathodic arc plasma
preferred orientation
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