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高温退火后非掺杂磷化铟材料的电子辐照缺陷 期刊论文
物理学报, 2007, 卷号: 56, 期号: 3, 页码: 1603-1607
作者:  王博
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低束流钕离子注入外延硅薄层的结构研究 期刊论文
核技术, 2003, 卷号: 26, 期号: 11, 页码: 823-826
曾宇昕; 程国安; 王水凤; 肖志松
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C离子注入Si中Si-C合金的形成及其特征 期刊论文
半导体学报, 2001, 卷号: 22, 期号: 8, 页码: 979
作者:  王玉田
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大剂量氧注入硅中的再分布理论及其快速计算 期刊论文
半导体学报, 1996, 卷号: 17, 期号: 9, 页码: 698
奚雪梅; 赵清太; 张兴; 李映雪; 王阳元; 陈新; 王佑祥
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