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半导体研究所 [11]
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期刊论文 [10]
学位论文 [1]
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学科主题:半导体材料
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硅基III-V族半导体材料的外延生长及量子点激光器研究
学位论文
博士, 北京: 中国科学院研究生院, 2016
刘广政
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浏览/下载:535/0
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提交时间:2016/06/03
GaAs/Si
GaAs/Ge
两步法
四步法
量子点
激光器
周期换向脉冲电沉积-硒化法制备铜铟镓硒薄膜
期刊论文
功能材料与器件学报, 2011, 卷号: 17, 期号: 2, 页码: 187-194
作者:
曲胜春
;
刘孔
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浏览/下载:21/0
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提交时间:2012/07/17
以Au为缓冲层在Si衬底上生长ZnO薄膜
期刊论文
发光学报, 2008, 卷号: 29, 期号: 5, 页码: 861-864
作者:
王晓峰
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浏览/下载:14/0
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提交时间:2010/11/23
以金属为缓冲层在Si(111)上分子束外延GaN及其表征
期刊论文
半导体学报, 2008, 卷号: 29, 期号: 10, 页码: 1998-2002
林郭强
;
曾一平
;
王晓亮
;
刘宏新
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浏览/下载:17/0
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提交时间:2010/11/23
蓝宝石衬底上HVPE-GaN厚膜生长
期刊论文
半导体学报, 2007, 卷号: 28, 期号: 6, 页码: 902-908
作者:
段瑞飞
;
魏同波
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浏览/下载:180/20
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提交时间:2010/11/23
MOCVD生长GaN力学性能研究
期刊论文
稀有金属材料与工程, 2007, 卷号: 36, 期号: 3, 页码: 416-419
作者:
段瑞飞
;
魏同波
收藏
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浏览/下载:131/4
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提交时间:2010/11/23
Si基外延GaN的结构和力学性能
期刊论文
材料研究学报, 2007, 卷号: 21, 期号: 4, 页码: 409-413
作者:
刘喆
;
魏同波
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浏览/下载:136/18
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提交时间:2010/11/23
缓冲层厚度对MOCVD法生长GaN外延薄膜性能的影响
期刊论文
人工晶体学报, 2005, 卷号: 34, 期号: 3, 页码: 466-470
作者:
韩修训
;
黎大兵
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浏览/下载:7/0
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提交时间:2010/11/23
Si衬底上无坑洞3C-SiC的外延生长研究
期刊论文
固体电子学研究与进展, 2003, 卷号: 23, 期号: 2, 页码: 135-138
孙国胜
;
王雷
;
罗木昌
;
赵万顺
;
朱世荣
;
李晋闽
;
曾一平
;
林兰英
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浏览/下载:19/0
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提交时间:2010/11/23
立方相GaN外延层的表面起伏和高密度孪晶与六角相
期刊论文
中国科学. A辑, 数学, 2001, 卷号: 31, 期号: 6, 页码: 562
作者:
王玉田
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浏览/下载:4/0
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提交时间:2010/11/23
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