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浏览/检索结果: 共4条，第1-4条 帮助 限定条件 学科主题：半导体材料    内容类型：期刊论文     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Preferential orientation growth of AIN thin films on Si (111) substrates by LP-MOCVD 期刊论文 modern physics letters b, 2007, 卷号: 21, 期号: 22, 页码: 1437-1445 Zhao, YM; Sun, GS; Liu, XF; Li, JY; Zhao, WS; Wang, L; Luo, MC; Li, JM 收藏  |  浏览/下载：42/0  |  提交时间：2010/03/08 aluminum nitride  low pressure metalorganic chemical vapor deposition (LP-MOCVD)  V/III ratio  preferential orientation growth mechanism   Structural and optical properties of ZnO films on Si substrates using a gamma-Al2O3 buffer layer 期刊论文 journal of physics d-applied physics, 2006, 卷号: 39, 期号: 2, 页码: 269-273 Shen WJ; Wang J; Wang QY; Duan Y; Zeng YP 收藏  |  浏览/下载：49/0  |  提交时间：2010/04/11 CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION  ZINC-OXIDE FILMS  MOLECULAR-BEAM EPITAXY  SAPPHIRE  GROWTH   Effects of Thickness on Properties of ZnO Films Grown on Si by MOCVD 期刊论文 半导体学报, 2005, 卷号: 26, 期号: 11, 页码: 2069-2073 作者:  Wang Jun;  Wang Jun 收藏  |  浏览/下载：12/0  |  提交时间：2010/11/23 Structural evaluation of polycrystalline silicon thin films by hot-wire-assisted PECVD 期刊论文 thin solid films, 2001, 卷号: 395, 期号: 1-2, 页码: 213-216 Feng Y; Zhu M; Liu F; Liu J; Han H; Han Y 收藏  |  浏览/下载：162/11  |  提交时间：2010/08/12 poly-Si  structure  hot-wire  plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD)  CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION  MICROCRYSTALLINE SILICON  HYDROGEN