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浏览/检索结果: 共9条，第1-9条 帮助 限定条件 学科主题：光学薄膜     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 沉积温度对热舟蒸发MgF2薄膜性能的影响 期刊论文 强激光与粒子束, 2008, 卷号: 20, 期号: 3, 页码: 396, 400 尚淑珍; 赵祖欣; 邵建达 收藏  |  浏览/下载：859/126  |  提交时间：2009/09/22 光学薄膜  Absorbance  氟化镁  Laser induced damage threshold  光学损耗  MgF2 films  吸收  Reflectance spectra  损伤阈值  Resistance boat evaporation  Transmittance spectra   热舟蒸发LaF_3薄膜的紫外性能研究 期刊论文 物理学报, 2008, 卷号: 57, 期号: 3, 页码: 1941, 1945 尚淑珍; 邵建达; 范正修; 赵祖欣 收藏  |  浏览/下载：1368/225  |  提交时间：2009/09/22 optical film  depositing temperature  LaF3  optical loss   沉积温度对氧化钇稳定氧化锆薄膜残余应力的影响 期刊论文 光学学报, 2008, 卷号: 28, 期号: 5, 页码: 1007, 1011 肖祁陵; 贺洪波; 邵淑英; 邵建达; 范正修 收藏  |  浏览/下载：700/128  |  提交时间：2009/09/22 薄膜光学  残余应力  氧化钇稳定氧化锆薄膜  沉积温度  Deposition temperature  Residual stress  Thin film optics  Yttria-stabilized zirconia thin films  Yttrial-stabilized zirconia films   沉积温度对LaF3薄膜性能的影响 期刊论文 强激光与粒子束, 2007, 卷号: 19, 期号: 9, 页码: 1507, 1511 余华; 崔云; 申雁鸣; 齐红基; 邵建达; 范正修 收藏  |  浏览/下载：1098/222  |  提交时间：2009/09/22 Crystal structure  Deposition  Grain size and shape  Interferometers  Lanthanum compounds  Refractive index  Residual stresses  Spectrophotometers  Temperature  X ray diffraction   沉积温度对电子束蒸发HfO2薄膜残余应力的影响 期刊论文 中国激光, 2006, 卷号: 33, 期号: 6, 页码: 827, 831 申雁鸣; 贺洪波; 邵淑英; 范正修 收藏  |  浏览/下载：725/114  |  提交时间：2009/09/22 薄膜  HfO2薄膜  残余应力  沉积温度  基底  电子束蒸发   制备工艺条件对薄膜微结构的影响 期刊论文 中国激光, 2006, 卷号: 33, 期号: 5, 页码: 673, 678 田光磊; 申雁鸣; 沈健; 邵建达; 范正修 收藏  |  浏览/下载：817/83  |  提交时间：2009/09/22 薄膜  X射线衍射  晶相结构  迁移率  扩散激活能   沉积温度对HfO2薄膜残余应力的影响 期刊论文 强激光与粒子束, 2005, 卷号: 17, 期号: 12, 页码: 1812, 1816 申雁鸣; 贺洪波; 邵淑英; 范正修; 邵建达 收藏  |  浏览/下载：566/107  |  提交时间：2009/09/22 HfO2薄膜  HfO2 films  残余应力  Residual stress  沉积温度  Deposition temperature  微结构  Microstructure  X射线衍射  XRD   不同沉积参量下ZrO_2薄膜的微结构和激光损伤阈值 期刊论文 光学学报, 2005, 卷号: 25, 期号: 7, 页码: 994, 998 马平; 陈松林; 胡建平; 胡江川; 段立华; 王震; 邵建达; 范正修 收藏  |  浏览/下载：506/95  |  提交时间：2009/09/22 薄膜光学  ZrO2薄膜  X射线衍射  氧压  基体温度  激光损伤  thin film optics  ZrO2 thin film  X-ray diffraction  oxygen partial pressure  substrate temperature  laser damage   沉积参量及时效时间对SiO2薄膜残余应力的影响 期刊论文 光学学报, 2005, 卷号: 25, 期号: 1, 页码: 126, 130 邵淑英; 田光磊; 范正修; 邵建达 收藏  |  浏览/下载：603/126  |  提交时间：2009/09/22 薄膜光学  thin film optics  SiO2薄膜  SiO2 films  残余应力  residual stress  沉积温度  deposition temperature  氧分压  oxygen partial pressure  时效  aging