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新疆理化技术研究所 [2]
内容类型
期刊论文 [2]
发表日期
2020 [2]
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发表日期:2020
内容类型:期刊论文
专题:新疆理化技术研究所
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偏置条件对国产SiGe BiCMOS器件总电离辐射效应的影响
期刊论文
辐射研究与辐射工艺学报, 2020, 卷号: 38, 期号: 5, 页码: 64-70
作者:
王利斌
;
王信
;
吴雪
;
李小龙
;
刘默寒
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提交时间:2020/11/03
SiGe BiCMOS
偏置条件
电离总剂量
氧化物陷阱电荷
界面态
电离总剂量效应对4T CMOS图像传感器暗电流影响的数值仿真
期刊论文
数值计算与计算机应用, 2020, 卷号: 41, 期号: 2, 页码: 143-150
作者:
魏莹
;
文林
;
李豫东
;
郭旗
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浏览/下载:17/0
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提交时间:2020/09/07
CMOS图像传感器
电离总剂量辐射效应
TCAD仿真
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