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内容类型
期刊论文 [3]
发表日期
2017 [3]
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发表日期:2017
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Modulation of interfacial and electrical properties of HfGdO/GaAs gate stacks by ammonium sulfide passivation and rapid thermal annealing
期刊论文
JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS, 2017, 卷号: 704, 期号: 无, 页码: 322-328
作者:
Jiang, S. S.
;
He, G.
;
Liang, S.
;
Zhu, L.
;
Li, W. D.
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提交时间:2018/07/04
High-k Gate Dielectrics
Interface Chemistry
Xps Electrical Properties
Cmos Devices
Total Dose Effects and Bias Instabilities of (NH4)(2)S Passivated Ge MOS Capacitors With HfxZr1-xOy Thin Films
期刊论文
IEEE TRANSACTIONS ON NUCLEAR SCIENCE, 2017, 卷号: 64, 页码: 2913-2921
作者:
Mu, Yifei
;
Fang, Yuxiao
;
Zhao, Ce Zhou
;
Zhao, Chun
;
Lu, Qifeng
收藏
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2019/11/26
germanium
HfxZr1-xOy
interface traps
total dose effect
oxide trapped charges
Abnormal Recovery Phenomenon Induced by Hole Injection During Hot Carrier Degradation in SOI n-MOSFETs
期刊论文
IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS, 2017
Lu, Ying-Hsin
;
Chang, Ting-Chang
;
Chen, Li-Hui
;
Lin, Yu-Shan
;
Liu, Xi-Wen
;
Liao, Jih-Chien
;
Lin, Chien-Yu
;
Lien, Chen-Hsin
;
Chang, Kuan-Chang
;
Zhang, Sheng-Dong
收藏
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浏览/下载:4/0
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提交时间:2017/12/03
Hole injection
hot carrier
impact ionization
abnormal recovery
P-MOSFETS
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