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浏览/检索结果: 共4条，第1-4条 帮助 限定条件 发表日期：2016     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Facile usage of a MYTHEN 1K with a Huber 5021 diffractometer and angular calibration in operando experiments 期刊论文 JOURNAL OF APPLIED CRYSTALLOGRAPHY, 2016, 卷号: 49, 页码: 1182-1189 作者:  Gao, M;  Gu, YL;  Li, L;  Gong, ZL;  Gao, XY 收藏  |  浏览/下载：21/0  |  提交时间：2017/03/02 MYTHEN 1K  X-ray powder diffraction  synchrotron radiation  Debye-Scherrer geometry   Seeded FEL Experiments at the SDUV-FEL Test Facility 期刊论文 IEEE TRANSACTIONS ON NUCLEAR SCIENCE, 2016, 卷号: 63, 期号: 2, 页码: 930—938 作者:  Zhao, ZT;  Wang, D 收藏  |  浏览/下载：20/0  |  提交时间：2016/09/12 FREE-ELECTRON LASER  GAIN HARMONIC-GENERATION  RAY SASE-FEL  X-RAY  EXTREME-ULTRAVIOLET  SYNCHROTRON-RADIATION  PULSES  POLARIZATION  COHERENT  INTENSE   Study of Scintillator thickness optimization of lens-coupled X-ray imaging detectors 期刊论文 JOURNAL OF INSTRUMENTATION, 2016, 卷号: 11, 期号: -, 页码: — 作者:  Xie, H;  Du, G;  Deng, B;  Chen, R;  Xiao, T 收藏  |  浏览/下载：8/0  |  提交时间：2016/09/12 COMPUTED MICROTOMOGRAPHY  RESOLUTION   Patterning of nanodot-arrays using EUV achromatic Talbot lithography at the Swiss Light Source and Shanghai Synchrotron Radiation Facility 期刊论文 MICROELECTRONIC ENGINEERING, 2016, 卷号: 155, 页码: 55-60 作者:  Fan, D;  Buitrago, E;  Yang, SM;  Karim, W;  Wu, YQ 收藏  |  浏览/下载：13/0  |  提交时间：2017/03/02 EUV  Interference lithography  High resolution  Nano-lithography  Achromatic Talbot lithography