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浏览/检索结果: 共4条，第1-4条 帮助 限定条件 发表日期：2015     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Investigation of fused silica glass etching using C4F8/Ar inductively coupled plasmas for through glass via（TGV）applications 期刊论文 Microsyst Technol, 2015 作者:  林来存;  王启东;  靖向萌 收藏  |  浏览/下载：10/0  |  提交时间：2016/06/02 C4F8/AR混合气体刻蚀SiO2的多目标优化研究 会议论文 2015中国力学大会, 上海, 2015-08-16 作者:  刘佳;  阎军;  戴忠玲;  宋亦旭 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2019/12/09 Atomic layer etching of SiO2 under Ar/C4F8 plasmas with pulsed bias 会议论文 The joint 68th Gaseous Electronics Conference, the 9th International Conference on Reactive Plasmas, and the 33rd Symposium on Plasma Processing (GEC-68/ICRP-9/SPP-33) 作者:  Dai ZL(戴忠玲);  Wang YN(王友年) 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2019/12/09 C4F8/Ar等离子体蚀刻蚀SiO2的多尺度研究 学位论文 : 大连理工大学, 2015 作者:  眭佳星 收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2019/12/09 等离子体刻蚀  多尺度模型  鞘层特性  刻蚀剖面演化  超大规模集成电路