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科研机构
北京大学 [4]
内容类型
期刊论文 [4]
发表日期
2015 [4]
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发表日期:2015
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Back Channel Anodization Amorphous Indium Gallium Zinc Oxide Thin-Film Transistors Process
期刊论文
ieee electron device letters, 2015
Xiao, Xiang
;
Shao, Yang
;
He, Xin
;
Deng, Wei
;
Zhang, Letao
;
Zhang, Shengdong
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浏览/下载:4/0
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提交时间:2015/11/11
Amorphous indium gallium zinc oxide (a-IGZO)
thin-film transistors (TFTs)
back channel anodization (BCA)
low temperature
Performance and Stability Improvements of Back-Channel-Etched Amorphous Indium-Gallium-Zinc Thin-Film-Transistors by CF4+O-2 Plasma Treatment
期刊论文
IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS, 2015
Liu, Xiang
;
Wang, Lisa Ling
;
Hu, Hehe
;
Lu, Xinhong
;
Wang, Ke
;
Wang, Gang
;
Zhang, Shengdong
收藏
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2017/12/03
a-IGZO TFTs
back-channel-etch (BCE)
plasma treatment
threshold voltage shift
THRESHOLD VOLTAGE
SHIFT
OXIDE
GATE
Comparative study of a-IGZO TFTs with direct current and radio frequency sputtered channel layers
期刊论文
JOURNAL OF THE SOCIETY FOR INFORMATION DISPLAY, 2015
Deng, Wei
;
Xiao, Xiang
;
He, Xin
;
Lee, Chia-Yu
;
Zhang, Shengdong
收藏
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2017/12/03
amorphous indium-gallium-zinc oxide (a-IGZO)
RF sputtering
DC sputtering
oxygen vacancy
stability
THIN-FILM TRANSISTORS
TRANSPORT
Low-Voltage a-InGaZnO Thin-Film Transistors With Anodized Thin HfO2 Gate Dielectric
期刊论文
IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS, 2015
Shao, Yang
;
Xiao, Xiang
;
He, Xin
;
Deng, Wei
;
Zhang, Shengdong
收藏
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浏览/下载:5/0
  |  
提交时间:2017/12/03
Amorphous indium-gallium-zinc oxide (a-IGZO)
anodized HfO2
high-k
low voltage
thin-film transistors (TFTs)
OXIDE
TEMPERATURE
ALUMINUM
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