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确定单晶硅湿法刻蚀制作中阶梯光栅中刻蚀截止点的方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: 201310251594.9, 申请日期: 2014-11-19, 公开日期: 2014-11-19
焦庆斌 谭鑫 巴音贺希格 齐向东
收藏  |  浏览/下载:38/0  |  提交时间:2015/02/10
空间机械用液体润滑剂及其添加剂的真空摩擦学行为研究 学位论文
理学博士: 中国科学院大学, 2014
作者:  张松伟
收藏  |  浏览/下载:119/0  |  提交时间:2014/11/25
Mn1.56Co0.96Ni0.48O4薄膜的激光分子束外延制备及结构与电学性能研究 学位论文
博士, 北京: 中国科学院大学, 2014
作者:  吉光
收藏  |  浏览/下载:34/0  |  提交时间:2014/08/05
Mn1.56Co0.96Ni0.48O4薄膜的激光分子束外延制备及结构与电学性能研究 学位论文
中国科学院新疆理化技术研究所: 中国科学院大学, 2014
作者:  吉光
收藏  |  浏览/下载:20/0  |  提交时间:2014/08/05
基于脉冲磁控放电法的真空寿命评估技术研究 学位论文
: 大连理工大学, 2014
作者:  金志明
收藏  |  浏览/下载:2/0  |  提交时间:2019/12/11


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