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一种硅基绝缘体上锗衬底减薄的方法 专利
申请日期: 2011-12-05, 公开日期: 2012-11-20
作者:  王虹;  卢力;  赵威;  王盛凯;  刘洪刚
收藏  |  浏览/下载:2/0  |  提交时间:2012/11/20
超薄绝缘体上锗(GOI)材料制备及其性质研究 学位论文
2011, 2011
胡美娇
收藏  |  浏览/下载:4/0  |  提交时间:2016/02/14
循环氧化/退火制备GeOI薄膜材料及其性质研究 期刊论文
2011
胡美娇; 李成; 徐剑芳; 赖虹凯; 陈松岩
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体硅及绝缘体上应变硅、应变锗硅制备技术研究 学位论文
博士: 中国科学院研究生院(上海微系统与信息技术研究所)  , 2011
薛忠营
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