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浏览/检索结果: 共3条，第1-3条 帮助 限定条件 发表日期：2005    学科主题：光学薄膜     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 不同沉积参量下ZrO_2薄膜的微结构和激光损伤阈值 期刊论文 光学学报, 2005, 卷号: 25, 期号: 7, 页码: 994, 998 马平; 陈松林; 胡建平; 胡江川; 段立华; 王震; 邵建达; 范正修 收藏  |  浏览/下载：533/96  |  提交时间：2009/09/22 薄膜光学  ZrO2薄膜  X射线衍射  氧压  基体温度  激光损伤  thin film optics  ZrO2 thin film  X-ray diffraction  oxygen partial pressure  substrate temperature  laser damage   High laser-induced damage threshold HfO2 films prepared by ion-assisted electron beam evaporation 期刊论文 appl. surf. sci., 2005, 卷号: 243, 期号: 1~4, 页码: 232, 237 Zhang DW; Fan SH; Zhao YN; Gao WD; 邵建达; Fan RY; Wang YJ; 范正修 收藏  |  浏览/下载：818/152  |  提交时间：2009/09/22 HfO2 films  laser-induced damage threshold  ion-assisted reaction  weak absorption   ZrO2／SiO2多层膜中膜厚组合周期数及基底材料对残余应力的影响 期刊论文 物理学报, 2005, 卷号: 54, 期号: 7, 页码: 3312, 3316 邵淑英; 范正修; 邵建达 收藏  |  浏览/下载：911/168  |  提交时间：2009/09/22 残余应力  ZrO2/SiO2 multilayers  SiO2  residual stress  ZrO2  periods of repeating thickness  多层膜  周期数  组合  膜厚  基底材料  X射线衍射技术  玻璃基底  电子束蒸发  光学干涉仪  应力值  沉积条件  曲率半径  测量分析  石英基底  变化趋势  结构应变  结晶程度  相互作用  折射率  熔石英  压应力  微结构