| 基于无掩模光刻的高精度ITO电极加工工艺研究 | |
| 殷艺; 刘志坚; 王赛杰; 武森; 严志军; 潘新祥 | |
| 2019 | |
| 关键词 | ITO电极 湿法刻蚀 无掩模光刻 高精度 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5513378 |
| 专题 | 广东海洋大学 |
| 作者单位 | 1.[1]大连海事大学轮机工程学院 2.[2]广东海洋大学航海学院 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 殷艺,刘志坚,王赛杰,等. 基于无掩模光刻的高精度ITO电极加工工艺研究[J],2019. |
| APA | 殷艺,刘志坚,王赛杰,武森,严志军,&潘新祥.(2019).基于无掩模光刻的高精度ITO电极加工工艺研究.. |
| MLA | 殷艺,et al."基于无掩模光刻的高精度ITO电极加工工艺研究".(2019). |
| 个性服务 |
| 查看访问统计 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论