基于无掩模光刻的高精度ITO电极加工工艺研究 | |
殷艺; 刘志坚; 王赛杰; 武森; 严志军; 潘新祥 | |
2019 | |
关键词 | ITO电极 湿法刻蚀 无掩模光刻 高精度 |
URL标识 | 查看原文 |
内容类型 | 期刊论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5513378 |
专题 | 广东海洋大学 |
作者单位 | 1.[1]大连海事大学轮机工程学院 2.[2]广东海洋大学航海学院 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 殷艺,刘志坚,王赛杰,等. 基于无掩模光刻的高精度ITO电极加工工艺研究[J],2019. |
APA | 殷艺,刘志坚,王赛杰,武森,严志军,&潘新祥.(2019).基于无掩模光刻的高精度ITO电极加工工艺研究.. |
MLA | 殷艺,et al."基于无掩模光刻的高精度ITO电极加工工艺研究".(2019). |
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