QQ客服 官方微博 反馈留言

	射频反应磁控溅射法氧化钒薄膜的制备及其性能研究
	陈颖超[1]; 刘彭义[1]; 唐振方[1]; 叶勤[1]
	2013
卷号	27期号:22页码:26
关键词	VO2薄膜 射频磁控溅射 相变
URL标识	查看原文
内容类型	期刊论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/4451892
专题	暨南大学
作者单位	[1]暨南大学物理系,广州510632
推荐引用方式 GB/T 7714	陈颖超[1],刘彭义[1],唐振方[1],等. 射频反应磁控溅射法氧化钒薄膜的制备及其性能研究[J],2013,27(22):26.
APA	陈颖超[1],刘彭义[1],唐振方[1],&叶勤[1].(2013).射频反应磁控溅射法氧化钒薄膜的制备及其性能研究.,27(22),26.
MLA	陈颖超[1],et al."射频反应磁控溅射法氧化钒薄膜的制备及其性能研究".27.22(2013):26.

个性服务

查看访问统计

相关权益政策

暂无数据

收藏/分享

除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。