射频反应磁控溅射法氧化钒薄膜的制备及其性能研究 | |
陈颖超[1]; 刘彭义[1]; 唐振方[1]; 叶勤[1] | |
2013 | |
卷号 | 27期号:22页码:26 |
关键词 | VO2薄膜 射频磁控溅射 相变 |
URL标识 | 查看原文 |
内容类型 | 期刊论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/4451892 |
专题 | 暨南大学 |
作者单位 | [1]暨南大学物理系,广州510632 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈颖超[1],刘彭义[1],唐振方[1],等. 射频反应磁控溅射法氧化钒薄膜的制备及其性能研究[J],2013,27(22):26. |
APA | 陈颖超[1],刘彭义[1],唐振方[1],&叶勤[1].(2013).射频反应磁控溅射法氧化钒薄膜的制备及其性能研究.,27(22),26. |
MLA | 陈颖超[1],et al."射频反应磁控溅射法氧化钒薄膜的制备及其性能研究".27.22(2013):26. |
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