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	基于背景校正和图像分割定量分析光学元件表面疵病的新算法
	张博[1]; 倪开灶[2]; 王林军[3]; 刘世杰[4]; 吴伦哲[5]
刊名	光学学报
	2016
卷号	36页码:0911004
关键词	成像系统 表面疵病 背景校正 图像梯度 最大类间方差法
ISSN号	0253-2239
URL标识	查看原文
内容类型	期刊论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2233779
专题	上海大学
作者单位	[1] 上海大学材料科学与工程学院, 中国科学院强激光材料重点实验室, 上海 200444, 中国[2] 中国科学院上海光学精密机械研究所, 中国科学院强激光材料重点实验室, 上海 201800, 中国[3] 上海大学材料科学与工程学院, 上海 200444, 中国[4] 中国科学院上海光学精密机械研究所, 中国科学院强激光材料重点实验室, 上海 201800, 中国[5] 上海大学材料科学与工程学院, 中国科学院强激光材料重点实验室, 上海 200444, 中国
推荐引用方式 GB/T 7714	张博[1],倪开灶[2],王林军[3],等. 基于背景校正和图像分割定量分析光学元件表面疵病的新算法[J]. 光学学报,2016,36:0911004.
APA	张博[1],倪开灶[2],王林军[3],刘世杰[4],&吴伦哲[5].(2016).基于背景校正和图像分割定量分析光学元件表面疵病的新算法.光学学报,36,0911004.
MLA	张博[1],et al."基于背景校正和图像分割定量分析光学元件表面疵病的新算法".光学学报 36(2016):0911004.

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