基于背景校正和图像分割定量分析光学元件表面疵病的新算法 | |
张博[1]; 倪开灶[2]; 王林军[3]; 刘世杰[4]; 吴伦哲[5] | |
刊名 | 光学学报 |
2016 | |
卷号 | 36页码:0911004 |
关键词 | 成像系统 表面疵病 背景校正 图像梯度 最大类间方差法 |
ISSN号 | 0253-2239 |
URL标识 | 查看原文 |
内容类型 | 期刊论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2233779 |
专题 | 上海大学 |
作者单位 | [1] 上海大学材料科学与工程学院, 中国科学院强激光材料重点实验室, 上海 200444, 中国[2] 中国科学院上海光学精密机械研究所, 中国科学院强激光材料重点实验室, 上海 201800, 中国[3] 上海大学材料科学与工程学院, 上海 200444, 中国[4] 中国科学院上海光学精密机械研究所, 中国科学院强激光材料重点实验室, 上海 201800, 中国[5] 上海大学材料科学与工程学院, 中国科学院强激光材料重点实验室, 上海 200444, 中国 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 张博[1],倪开灶[2],王林军[3],等. 基于背景校正和图像分割定量分析光学元件表面疵病的新算法[J]. 光学学报,2016,36:0911004. |
APA | 张博[1],倪开灶[2],王林军[3],刘世杰[4],&吴伦哲[5].(2016).基于背景校正和图像分割定量分析光学元件表面疵病的新算法.光学学报,36,0911004. |
MLA | 张博[1],et al."基于背景校正和图像分割定量分析光学元件表面疵病的新算法".光学学报 36(2016):0911004. |
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