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浏览/检索结果: 共6条，第1-6条 帮助 限定条件 专题：湖南大学    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 An overview: Reaction mechanisms and modelling of CO utilization via mineralization 期刊论文 Aerosol and Air Quality Research, 2018, 卷号: Vol.18 No.4, 页码: 829-848 作者:  Pan, S.-Y.;  Ling, T.-C.;  Park, A.-H.A.;  Chiang, P.-C. 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2019/12/26 Diffusion  Kinetics  Mechanism  Shrinking core model  Surface coverage model   Influence of anisotropy on the electrical conductivity and diffusion coefficient of dry K-feldspar: Implications of the mechanism of conduction 期刊论文 CHINESE PHYSICS B, 2018, 卷号: Vol.27 No.2 作者:  Li-Dong Dai;  Hai-Ying Hu;  He-Ping Li;  Wen-Qing Sun;  Jian-Jun Jiang 收藏  |  浏览/下载：10/0  |  提交时间：2019/12/26 electrical  conductivity  and  diffusion  coefficient  K-feldspar  anisotropy  conduction  mechanism   High-temperature oxidation resistance of the Ni60Ti alloy: An experimental and first-principles study 期刊论文 Journal of Alloys and Compounds, 2017, 卷号: Vol.706, 页码: 297-304 作者:  Shu, XY;  Hu, LL;  Li, GF;  Lu, SQ;  Wang, KL 收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2019/12/31 Shape memory alloy  Oxidation mechanism  First-principles calculation  Bonding  Diffusion   Study and application of three-stage seriflux diffusion mechanism in the fissure of aquifer with horizontal injection hole 期刊论文 Journal of China Coal Society, 2016, 卷号: Vol.41 No.5, 页码: 1212-1218 作者:  Zhao, Qing-Biao;  Bi, Chao;  Hu, Wei-Yue;  Wang, Hai-Qiao;  Nan, Sheng-Hui 收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2019/12/31 aquifer with fissure  horizontal injection hole  three-stage  seriflux diffusion mechanism  large depth  high water pressure   Electrochemical Mechanism of Cr(III) Reduction for Preparing Crystalline Chromium Coatings Based on 1-Ethyl-3-methylimidazolium Bisulfate Ionic Liquid 期刊论文 Journal of The Electrochemical Society, 2015, 卷号: Vol.162 No.9, 页码: D435-D443 作者:  He, Xinkuai;  Li, Chen;  Jiang, Yumei;  Zhu, Qingyun;  Wang, Weichun 收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2019/12/31 Diffusion coefficient  Nucleation mechanism  Trivalent chromium   Diffusion barrier performance of novel Ti/TaN double layers for Cu metallization 期刊论文 Applied Surface Science, 2014, 卷号: Vol.315, 页码: 353-359 作者:  Zhou, Y.M.;  He, M.Z.;  Xie, Z. 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2019/12/31 Ti/TaN films  Diffusion barrier  Thermal stability  Failure mechanism  Copper metallization