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光学稀疏孔径成像系统关键问题研究 学位论文
博士: 中国科学院西安光学精密机械研究所, 2007
作者:  易红伟
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マスクを通るラテラル成長による窒化ガリウム基板の製造とそれから製作されたデバイス 专利
专利号: JP2007502546A, 申请日期: 2007-02-08, 公开日期: 2007-02-08
作者:  ボーモン、ベルナール;  フォーリエ、ジャン-ピエール;  ジバール、ピエール
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選択MOCVD成長法による成膜方法 专利
专利号: JP1996264454A, 申请日期: 1996-10-11, 公开日期: 1996-10-11
作者:  板垣 卓士;  竹見 政義;  早藤 紀生
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