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浏览/检索结果: 共5条，第1-5条 帮助 限定条件 专题：上海光学精密机械研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 全内反射显微技术探测亚表面缺陷新方法研究 期刊论文 光学学报, 2014, 卷号: 34, 期号: 6, 页码: 612004 作者:  崔辉;  刘世杰;  赵元安;  杨俊;  刘杰 收藏  |  浏览/下载：14/0  |  提交时间：2016/11/28 测量  亚表面缺陷  全内反射显微法  清晰度评价  微调焦  成像模拟  飞秒刻写   光学元件亚表面缺陷的无损检测研究 学位论文 硕士: 中国科学院上海光学精密机械研究所, 2014 作者:  崔辉 收藏  |  浏览/下载：37/0  |  提交时间：2016/11/28 亚表面缺陷  全内反射显微法  散射  显微镜  微调焦   全内反射显微技术探测亚表面缺陷新方法研究 期刊论文 光学学报, 2014, 卷号: 34, 期号: 6, 页码: 612004 作者:  崔辉;  刘世杰;  赵元安;  杨俊;  刘杰 收藏  |  浏览/下载：14/0  |  提交时间：2016/11/25 测量  亚表面缺陷  全内反射显微法  清晰度评价  微调焦  成像模拟  飞秒刻写   全内反射显微技术探测亚表面缺陷新方法研究 期刊论文 光学学报, 2014, 卷号: 34, 期号: 6, 页码: 612004 作者:  崔辉;  刘世杰;  赵元安;  杨俊;  刘杰 收藏  |  浏览/下载：21/0  |  提交时间：2016/11/28 测量  亚表面缺陷  全内反射显微法  清晰度评价  微调焦  成像模拟  飞秒刻写   精密调整回转台 专利 专利类型: 实用新型, 专利号: ZL99227856.2, 申请日期: 2000-05-04, 公开日期: 2011-07-14, 2011-07-15 谢虎; 张全慧; 戴亚平; 周根发; 王国兴; 朱健强 收藏  |  浏览/下载：14/0  |  提交时间：2011/07/14