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光电技术研究所 [3]
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2016 [1]
2009 [1]
2007 [1]
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Nanofocusing beyond the near-field diffraction limit via plasmonic Fano resonance
期刊论文
NANOSCALE, 2016, 卷号: 8, 期号: 3, 页码: 1635-1641
作者:
Song, Maowen
;
Wang, Changtao
;
Zhao, Zeyu
;
Pu, Mingbo
;
Liu, Ling
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浏览/下载:16/0
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提交时间:2016/06/27
Improved near field lithography by surface plasmon resonance
会议论文
Proceedings of SPIE, 2009
作者:
Zeng BEibEi
;
Zhao Yanhui
;
Fang Liang
;
Wang Changtao
;
Luo Xiangang
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浏览/下载:4/0
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提交时间:2016/11/25
Suppression of pinhole defects in fullerene molecular electron beam resists
期刊论文
MICROELECTRONIC ENGINEERING, 2007, 卷号: 84, 期号: 5-8, 页码: 1066-1070
作者:
Chen, X.
;
Robinson, A. P. G.
;
Manickam, M.
;
Preece, J. A.
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  |  
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提交时间:2015/09/21
molecular resist
fullerene
electron beam lithography
pinholes
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