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浏览/检索结果: 共5条，第1-5条 帮助 限定条件 专题：北京航空航天大学    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Current-induced magnetization switching in atom-thick tungsten engineered perpendicular magnetic tunnel junctions with large tunnel magnetoresistance 期刊论文 NATURE COMMUNICATIONS, 2018, 卷号: 9, 页码: 671 作者:  Wang, Mengxing;  Cai, Wenlong;  Cao, Kaihua;  Zhou, Jiaqi;  Wrona, Jerzy 收藏  |  浏览/下载：5/0  |  提交时间：2019/12/30 boron  cobalt  iron  magnesium oxide  tantalum  tungsten  annealing  energy dissipation  high temperature  magnetization  torque  tungsten  tunneling  Article  atom  crystallization  current density  diffusion  magnetism  magnetoresistance  perpendicular magnetic tunnel junction  room temperature  thermostability  torque  transmission electron microscopy   Effects of stress-relief pre-annealing on deuterium trapping and diffusion in tungsten 会议论文 1st International All-About-Divertor Symposium (IADiS), Kyoto, JAPAN, 2017-12-01 作者:  Zhu, Xiu-Li;  Cheng, Long;  De Temmerman, Gregory;  Shi, Li-Qun;  Yuan, Yue 收藏  |  浏览/下载：7/0  |  提交时间：2019/12/30 Deuterium  Tungsten  Stress-relief pre-annealing  Residual stresses   Effects of stress-relief pre-annealing on deuterium trapping and diffusion in tungsten 期刊论文 1st International All-About-Divertor Symposium (IADiS), 2017, 卷号: 125, 页码: 526-530 作者:  Zhu, Xiu-Li;  Cheng, Long;  De Temmerman, Gregory;  Shi, Li-Qun;  Yuan, Yue 收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2019/12/30 Deuterium  Tungsten  Stress-relief pre-annealing  Residual stresses   The grain size and special boundary dependence of corrosion resistance in 304 austenitic stainless steels 期刊论文 MATERIALS CHEMISTRY AND PHYSICS, 2015, 卷号: 163, 页码: 496-500 作者:  Lv Jinlong;  Luo Hongyun;  Liang Tongxiang 收藏  |  浏览/下载：6/0  |  提交时间：2020/01/06 Metals  Annealing  Corrosion test  Ageing  Diffusion   Diffusion behavior of dual capping layers in TiN/LaN/AlN/HfSiOx/Si stack 期刊论文 APPLIED PHYSICS LETTERS, 2011, 卷号: 99 作者:  Zheng, X. H.;  Huang, A. P.;  Xiao, Z. S.;  Wang, M.;  Liu, X. Y. 收藏  |  浏览/下载：5/0  |  提交时间：2020/01/06 aluminium compounds  annealing  chemical interdiffusion  elemental semiconductors  hafnium compounds  high-k dielectric thin films  lanthanum compounds  MIS structures  silicon  titanium compounds