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科研机构
湖南大学 [3]
金属研究所 [1]
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期刊论文 [4]
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2019 [3]
2011 [1]
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Short channel monolayer MoS2 field-effect transistors defined by SiOx nanofins down to 20nm
期刊论文
NANOTECHNOLOGY, 2019, 卷号: Vol.30 No.29
作者:
Bi, KX
;
Liu, HZ
;
Chen, YQ
;
Luo, F
;
Shu, ZW
收藏
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2019/12/17
short channel devices
hydrogen silsesquioxane (HSQ) electron resists
large area preparation
Short channel monolayer MoS2 field-effect transistors defined by SiOx nanofins down to 20nm
期刊论文
NANOTECHNOLOGY, 2019, 卷号: Vol.30 No.29
作者:
Bi, KX
;
Liu, HZ
;
Chen, YQ
;
Luo, F
;
Shu, ZW
收藏
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浏览/下载:13/0
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提交时间:2019/12/17
short channel devices
hydrogen silsesquioxane (HSQ) electron resists
large area preparation
Short channel monolayer MoS2 field-effect transistors defined by SiOx nanofins down to 20 nm.
期刊论文
Nanotechnology, 2019
作者:
Kaixi Bi
;
Huaizhi Liu
;
Yiqin Chen
;
Fang Luo
;
Zhiwen Shu
收藏
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浏览/下载:14/0
  |  
提交时间:2019/12/17
hydrogen silsesquioxane (HSQ) electron resists
large area preparation
short chaneel devices
Preparation of graphene by chemical vapor deposition
期刊论文
New Carbon Materials, 2011, 卷号: 26, 期号: 1, 页码: 71-80
W. C. Ren
;
L. B. Gao
;
L. P. Ma
;
H. M. Cheng
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浏览/下载:24/0
  |  
提交时间:2012/04/13
Graphene
Preparation
Chemical vapor deposition
Transfer
few-layer graphene
epitaxial graphene
large-area
carbon
films
surfaces
nickel
phase
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