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Simulation of Discharge Characteristics for the Plasma Etching of Large Area SiO2 Substrates
期刊论文
JOURNAL OF RUSSIAN LASER RESEARCH, 2020, 卷号: 41, 期号: 3, 页码: 258-267
作者:
Zhang JW(张景文)
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浏览/下载:11/0
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提交时间:2020/11/30
reactive ion etching
capacitive coupled discharge
fluid simulation
discharge parameter
large area SiO2 substrates
plasma radial uniformity
Simulation of Discharge Characteristics for the Plasma Etching of Large Area SiO2 Substrates
期刊论文
JOURNAL OF RUSSIAN LASER RESEARCH, 2020, 卷号: 41, 期号: 3, 页码: 258-267
作者:
Zhang, Jingwen
;
Fan, Bin
;
Li, Zhiwei
;
Gao, Guohan
;
Li, Bincheng
收藏
  |  
浏览/下载:28/0
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提交时间:2021/05/11
Reactive Ion Etching
Capacitive Coupled Discharge
Fluid Simulation
Discharge Parameter
Large Area Sio2 Substrates
Plasma Radial Uniformity
Experimental investigation of the electron impact excitation behavior in pulse-modulated radio frequency Ar/O-2 inductively coupled plasma
期刊论文
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 2019, 卷号: 125
作者:
Xue, Chan
;
Gao, Fei
;
Wen, De-Qi
;
Wang, You-Nian
收藏
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浏览/下载:4/0
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提交时间:2019/12/02
CCD cameras
Charge coupled devices
Electric discharges
Electrons
Excited states
Impact ionization
Inductively coupled plasma
Plasma simulation
Radio waves, Bi-modal structures
Capacitive couplings
Discharge conditions
Electron-impact excitation
Experimental investigations
Inductive couplings
Intensified charge coupled device camera
Radio frequencies, Frequency modulation
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