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浏览/检索结果: 共5条，第1-5条 帮助 已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择发表日期升序发表日期降序作者升序作者降序提交时间升序提交时间降序题名升序题名降序 超深亚微米工艺条件下基于模型的光学邻近效应修正方法的研究 学位论文 博士, 上海微系统与信息技术研究所: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所, 2009 朱亮 收藏  |  浏览/下载：136/0  |  提交时间：2012/03/06 分辨率增强技术  光学邻近效应修正  可制造性设计  亚分辨率辅助图形  光学和工艺邻近效应修正   超深亚微米工艺条件下基于模型的光学临近效应修正方法的研究 学位论文 博士: 中国科学院研究生院（上海微系统与信息技术研究所）  , 2009 朱亮 收藏  |  浏览/下载：43/0  |  提交时间：2012/03/06 分辨率增强技术  　光学邻近效应修正  　可制造性设计  　亚分辨率辅助图形  　光学和工艺邻近效应修正　   偏离标准条件的OPC 模型以及OPC 相关的验证方法 学位论文 博士, 上海微系统与信息技术研究所: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所, 2006 陆梅君 收藏  |  浏览/下载：57/0  |  提交时间：2012/03/06 光学邻近效应修正  偏离标准条件  制程窗口  光刻规则检查  设计规则   基于子结构模型的音叉振动式微机械陀螺的检测电容解析方法 期刊论文 机械工程学报, 2006, 期号: 09 刘广军; 王安麟; 姜涛; 焦继伟; 张正福 收藏  |  浏览/下载：8/0  |  提交时间：2012/01/06 可制造性设计  光刻规则检查  光学邻近效应修正  设计规则  制程窗口   偏离标准条件的OPC模型以及OPC相关的验证方法 学位论文 博士: 中国科学院研究生院（上海微系统与信息技术研究所）  , 2006 陆梅君   收藏  |  浏览/下载：47/0  |  提交时间：2012/03/06 光学邻近效应修正  偏离标准条件  制程窗口  光刻规则检查  设计规则