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科研机构
微电子研究所 [1]
西安理工大学 [1]
内容类型
期刊论文 [2]
发表日期
2008 [1]
2002 [1]
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源漏硅化物扩散层分离技术对SOINMOS抗ESD的影响
期刊论文
功能材料与器件学报, 2008, 卷号: 14, 期号: 6, 页码: 6,1007-1012
作者:
韩郑生
;
宋文斌
;
许高博
;
曾传滨
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提交时间:2010/05/27
绝缘体上硅soi
Esd
源漏硅化物
二次击穿
导通电阻
栅接地nmos器件
平面型电力电子器件阻断能力的优化设计
期刊论文
2002, 卷号: 18, 页码: 154-158
作者:
安涛
;
王彩琳
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浏览/下载:1/0
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提交时间:2019/12/25
平面型电力电子器件
阻断能力
击穿电压
场限环
优化设计
体击穿器件
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