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PIC/MCC simulation of capacitively coupled discharges in helium: boundary effects 期刊论文
PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY, 2018, 卷号: 27
作者:  
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Advanced fluid modeling and PIC/MCC simulations of low-pressure ccrf discharges 期刊论文
PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY, 2017, 卷号: 26
作者:  Becker, M. M.;  Kaehlert, H.;  Sun, A.;  Bonitz, M.;  Loffhagen, D.
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