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科研机构
北京航空航天大学 [1]
内容类型
期刊论文 [1]
发表日期
2019 [1]
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Facile fabrication of ultraviolet-protective silk fabrics via atomic layer deposition of TiO2 with subsequent polyvinylsilsesquioxane modification
期刊论文
TEXTILE RESEARCH JOURNAL, 2019, 卷号: 89, 页码: 3529-3538
作者:
Yang, Huiyu
;
Wang, Yaling
;
Liu, Keshuai
;
Liu, Xin
;
Chen, Fengxiang
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提交时间:2019/12/30
atomic layer deposition
silk fabrics
TiO2
polyvinylsilsesquioxanes
UV-protective
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