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用飞秒激光制备背入射硅基碲镉汞焦平面增透膜的方法 专利
专利号: 201110071308.1, 申请日期: 2013-01-01, 公开日期: 2013-12-20
作者:  1 张姗 2 胡晓宁 3 廖洋 4 于晓明
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