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半导体氧化设备和制造半导体元件的方法 专利
专利号: CN102255242A, 申请日期: 2011-11-23, 公开日期: 2011-11-23
作者:  佐藤俊一;  轴谷直人;  伊藤彰浩;  梅本真哉;  禅野由明
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面発光レーザ作製用酸化装置 专利
专利号: JP2006040943A, 申请日期: 2006-02-09, 公开日期: 2006-02-09
作者:  禅野 由明;  梅本 真哉;  山本 高稔
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