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浏览/检索结果: 共5条，第1-5条 帮助 已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 基于微流控芯片构建一种新的体外血管生成模型 期刊论文 2011, 卷号: 56, 页码: 2319-2327 作者:  戴小珍[1];  蔡绍皙[1];  叶群芳[1];  蒋稼欢[1];  晏小清[1] 收藏  |  浏览/下载：8/0  |  提交时间：2019/11/28 晶化多晶硅氢等离子钝化处理的优化研究 期刊论文 光电子技术, 2010, 卷号: 30, 页码: 172-178 作者:  罗翀[1];  李娟[2];  李鹤[3];  孟志国[4];  熊绍珍[5] 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2019/04/30 氢钝化处理  多晶硅薄膜  机制   VHF-PECVD法高速率沉积氢化微晶硅薄膜 期刊论文 2004, 卷号: 25, 期号: [db:dc_citation_issue], 页码: 127 作者:  杨恢东 [1];  吴春亚 [2];  黄君凯 [3];  麦耀华 [2];  张晓丹 [2] 收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2019/12/03 光发射谱  氢化微晶硅薄膜  甚高频等离子体化学气相沉积  高速沉积   聚合物发光二极管中可逆的不稳定行为 期刊论文 半导体学报, 2000, 卷号: 第21卷, 页码: P580-586 作者:  刘恩峰1;  熊绍珍1;  赵颖1;  谢伟良1;  吴春亚1 收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2019/11/26 有机发光二极管/负阻效应/可恢复的短期衰退/界面处的缺陷   弱硼掺杂补偿对氢化微晶硅薄膜制备与特性的影响 会议论文 深圳, 2004年11月15日 作者:  杨恢东 [1];  黄君凯 [1];  吴春亚 [2];  熊绍珍 [2];  耿新华 [2] 收藏  |  浏览/下载：0/0  |  提交时间：2019/12/17 氢化微晶硅薄膜  等离子体增强  化学气相沉积  掺杂补偿  薄膜制备