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浏览/检索结果: 共7条，第1-7条 帮助 已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Structural kinetics constitutive models for characterizing the time-dependent rheologic behaviors of fresh cement paste 期刊论文 CONSTRUCTION AND BUILDING MATERIALS, 2021, 卷号: 276 作者:  Wang, Dafu;  Zhang, Yunsheng;  Xiao, Jia;  Huang, Tingjie;  Wu, Meng 收藏  |  浏览/下载：6/0  |  提交时间：2021/06/03 Structural kinetics  Constitutive relation  Structural build-up  Time-dependent behavior  Yield stress   Analysis of the polishing ability of electrogenerated chemical polishing 期刊论文 PRECISION ENGINEERING-JOURNAL OF THE INTERNATIONAL SOCIETIES FOR PRECISION ENGINEERING AND NANOTECHNOLOGY, 2017, 卷号: 47, 页码: 122-130 作者:  Shan, Kun;  Zhou, Ping;  Zuo, Yunsheng;  Kang, Renke;  Guo, Dongming 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2019/12/02 Electrochemistry  Chemical polishing  Roughness  Polishing ability  Numerical simulation   电致化学抛光中的物料平衡问题研究 学位论文 : 大连理工大学, 2017 作者:  左云盛 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2019/12/03 电致化学抛光  铜加工  Cu2+浓度  物料扩散  物料平衡  表面粗糙度   Cu2+浓度对于铜电致化学抛光过程的影响 会议论文 2016年全国电化学加工技术研讨会, 江苏连云港, 2016-11-26 作者:  左云盛;  闫英;  周平;  王可;  郭民政 收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2019/12/09 电致化学抛光  离子浓度  刻蚀效率  粗糙度   Cu~((2+))浓度对于铜电致化学抛光过程的影响 会议论文 2016年全国电化学加工技术研讨会, 中国江苏连云港, 2016-11-01 作者:  左云盛;  闫英;  周平;  王可;  郭民政 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2019/12/09 电致化学抛光  离子浓度  刻蚀效率  粗糙度   一种光学零件高精度平面的修形加工方法 专利 申请日期: 2015-01-01, 公开日期: 2016-03-16 作者:  周平;  邬振刚;  王林;  何东山;  左云盛 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2019/12/09 岩舒注射液对小鼠H22移植瘤p16表达及甲基化状态的影响 期刊论文 中国老年学杂志, 2008, 期号: 3 作者:  张冠中;  谢晓冬;  盛辉;  左云飞 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2019/12/05 岩舒注射液  H22移植瘤  p16