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薄膜形成装置およびこの薄膜形成装置を用いたアパタイト薄膜形成方法 专利
专利号: JP6243678B2, 申请日期: 2017-11-17, 公开日期: 2017-12-06
作者:  本津 茂樹;  西川 博昭;  楠 正暢;  吉川 一志;  山本 一世
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