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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Double-layer resist method to improve descum result when removing negative photoresist 期刊论文 MICRO & NANO LETTERS, 2019, 卷号: 14, 页码: 694-697 作者:  Yang, Zheng;  Wang, Qiusen;  Qi, Liping;  Wang, Xing;  Li, Kehong 收藏  |  浏览/下载：17/0  |  提交时间：2019/12/02 photoresists  viscosity  etching  negative photoresist scum  low viscosity positive photoresist  AZ703  double-layer resist method  optimal retracting distance  bottom layer resist  top layer resist  top layer contact  size 8  0 mum  size 1  10 mum