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Transparent ultraviolet photovoltaic cells 期刊论文
Optics Letters, 2016, 卷号: 41, 期号: 4
作者:  Yang, X.;  C. X. Shan;  Y. J. Lu;  X. H. Xie;  B. H. Li
收藏  |  浏览/下载：16/0  |  提交时间：2017/09/11
基于遗传算法的光刻机光源掩模优化技术研究 学位论文
博士: 中国科学院上海光学精密机械研究所, 2016
作者:  杨朝兴
收藏  |  浏览/下载：67/0  |  提交时间：2016/11/28
高数值孔径投影光刻物镜的光学设计 学位论文
博士: 中国科学院大学, 2015
作者:  徐明飞
收藏  |  浏览/下载：65/0  |  提交时间：2015/11/30
Fabrication of Ultrasensitive Field-Effect Transistor DNA Biosensors by a Directional Transfer Technique Based on CVD-Grown Graphene 期刊论文
ACS APPLIED MATERIALS & INTERFACES, 2015
Zheng, Chao; Huang, Le; Zhang, Hong; Sun, Zhongyue; Zhang, Zhiyong; Zhang, Guo-Jun
收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2017/12/03
光刻投影物镜波像差原位干涉检测技术研究 学位论文
硕士: 中国科学院上海光学精密机械研究所, 2015
作者:  吴飞斌
收藏  |  浏览/下载：108/0  |  提交时间：2016/11/28
Research development of thermal aberration in 193nm lithography exposure system 会议论文
Proceedings of SPIE: 7th International Symposium on Advanced Optical Manufacturing and Testing Technologies: Design Manufacturing, and Testing of Micro- and Nano-Optical Devices, and Systems, 2014
作者:  Wang, Yueqiang;  Liu, Yong
收藏  |  浏览/下载：22/0  |  提交时间：2016/11/23
Aberration measurement technique based on an analytical linear model of a through-focus aerial image 期刊论文
opt. express, 2014, 卷号: 22, 期号: 5, 页码: 5623
作者:  Yan, Guanyong;  Wang, Xiangzhao;  Li, Sikun;  Yang, Jishuo;  Xu, Dongbo
收藏  |  浏览/下载：28/0  |  提交时间：2016/11/28
Aberration measurement technique based on an analytical linear model of a through-focus aerial image 期刊论文
opt. express, 2014, 卷号: 22, 期号: 5, 页码: 5623
作者:  Yan, Guanyong;  Wang, Xiangzhao;  Li, Sikun;  Yang, Jishuo;  Xu, Dongbo
收藏  |  浏览/下载：14/0  |  提交时间：2016/11/28
Technology of focus detection for 193nm projection lithographic tool 会议论文
Proceedings of SPIE: 6th International Symposium on Advanced Optical Manufacturing and Testing Technologies: Design, Manufacturing, and Testing of Smart Structures, Micro- and Nano-Optical Devices, and Systems, 2012
作者:  Di, Chengliang;  Yan, Wei;  Hu, Song;  Xu, Feng;  Li, Jinglong
收藏  |  浏览/下载：9/0  |  提交时间：2016/11/24
Impact of polarized illumination on high NA imaging in ArF immersion lithography at 45 nm node 期刊论文
optik, 2009, 卷号: 120, 期号: 7, 页码: 325, 329
Yuan Qiongyan; 王向朝; Qiu Zicheng
收藏  |  浏览/下载：1276/227  |  提交时间：2009/09/18

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