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浏览/检索结果: 共9条，第1-9条 帮助 已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 半导体制造过程R2R控制方法研究进展 期刊论文 现代制造工程, 2013, 期号: 3, 页码: 4-10,99 作者:  胡静涛 收藏  |  浏览/下载：40/0  |  提交时间：2013/10/05 半导体制造  过程控制  R2R控制方法  指数加权移动平均  预测控制   无线传感器网络传输可靠性保障关键技术研究 学位论文 博士, 北京: 中国科学院研究生院, 2012 李立群 收藏  |  浏览/下载：31/0  |  提交时间：2012/06/14 无线传感器网络  可靠性  语音流传输  时间同步  车载网   CMP过程Run-to-Run预测控制方法研究 学位论文 博士, 中国科学院沈阳自动化研究所: 中国科学院沈阳自动化研究所, 2012 王亮 收藏  |  浏览/下载：228/0  |  提交时间：2012/07/27 半导体制造  化学机械研磨  Run-to-Run控制  预测控制  过程控制   基于神经网络的CMP过程智能R2R预测控制 期刊论文 半导体技术, 2012, 卷号: 37, 期号: 4, 页码: 305-311 作者:  胡静涛 收藏  |  浏览/下载：28/0  |  提交时间：2012/10/24 化学机械研磨  径向基函数神经网络  预测控制  批次控制  微粒群滚动优化   CMP过程多变量免疫预测R2R控制方法 期刊论文 仪器仪表学报, 2012, 卷号: 33, 期号: 11, 页码: 2586-2593 作者:  王亮;  胡静涛 收藏  |  浏览/下载：36/0  |  提交时间：2012/12/28 化学机械研磨  R2R控制  最小二乘支持向量机  贝叶斯证据框架  克隆选择  预测控制   基于LS-SVM的光刻过程R2R预测控制方法 期刊论文 半导体技术, 2012, 卷号: 37, 期号: 6, 页码: 482-488 作者:  胡静涛 收藏  |  浏览/下载：18/0  |  提交时间：2012/10/24 光刻过程  关键尺寸  最小二乘支持向量机  预测控制  批次控制  微粒群算法   基于模糊模型的CMP过程智能R2R预测控制方法 期刊论文 计算机测量与控制, 2012, 卷号: 20, 期号: 6, 页码: 1558-1561 作者:  胡静涛 收藏  |  浏览/下载：10/0  |  提交时间：2012/12/28 化学机械研磨  T-S模糊模型  批次控制  预测控制  克隆选择   基于LS-SVM模型和扰动估计的光刻过程智能R2R预测控制 期刊论文 计算机测量与控制, 2012, 卷号: 20, 期号: 8, 页码: 2124-2126, 2142 作者:  胡静涛 收藏  |  浏览/下载：9/0  |  提交时间：2012/12/28 光刻过程  最小二乘支持向量机  扰动估计  run-to-run控制  预测控制  克隆选择   基于灰色模型的CMP过程免疫预测R2R控制 期刊论文 仪器仪表学报, 2012, 卷号: 33, 期号: 2, 页码: 306-314 作者:  王亮;  胡静涛 收藏  |  浏览/下载：37/0  |  提交时间：2012/10/24 化学机械研磨  灰色模型  克隆选择  预测控制  Run-to-Run控制